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寧波真空鍍膜的塗層技術

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寧波真空鍍膜的塗層技術

發布日期:2018-08-23 作者:寧波真空鍍膜 點擊:

真空鍍膜的塗層技術

增強型磁控陰極弧:陰極弧技術是在真空條件下,通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態,從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用,將靶材表麵的電弧加以有效地控製,使材料的離化率更高,薄膜性能更加優異。

過濾陰極弧:過濾陰極電弧(FCA )配有高效的電磁過濾係統,可將離子源產生的等離子體中的宏觀粒子、離子團過濾幹淨,經過磁過濾後沉積粒子的離化率為100%,並且可以過濾掉大顆粒, 因此製備的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蝕性能好,與機體的結合力很強。
磁控濺射:在真空環境下,通過電壓和磁場的共同作用,以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊,致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出並沉積在基件上形成薄膜。根據使用的電離電源的不同,導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。

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離子束DLC:碳氫氣體在離子源中被離化成等離子體,在電磁場的共同作用下,離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調整加在等離子體上的電壓來控製。碳氫離子束被引到基片上,沉積速度與離子電流密度成正比。星弧塗層的離子束源采用高電壓,因而離子能量更大,使得薄膜與基片結合力很好;離子電流更大,使得DLC膜的沉積速度更快。離子束技術的主要優點在於可沉積超薄及多層結構,工藝控製精度可達幾個埃,並可將工藝過程中的顆料汙染所帶來的缺陷降至最小。
物理氣向沉積技術 * PVD 介紹 物理氣相沉積具有金屬汽化的特點,
與不同的氣體發應形成一種薄膜塗層。今天所使用的大多數 PVD 方法是電弧和濺射沉積塗層。這兩種過程需要在高度真空條件下進行。

Ionbond 陰極電弧 PVD 塗層技術在 20 世紀 70 年代後期由前蘇聯發明,如今,絕大多數的刀模具塗層使用電弧沉積技術。


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